ASMI versterkt ald-samenwerking met Finse universiteit

Alexander Pil
14 februari

ASM International heeft een nieuwe vijfjarige overeenkomst getekend met de chemiefaculteit van de Universiteit van Helsinki. Gezamenlijk zetten ze hun schouders onder het ALD Centre of Excellence, een onderzoekscentrum voor atoomlaagdepositie. De deal is een verlenging van een samenwerking die al in 2004 begon. ASMI is ook van plan om het team van dochteronderneming ASM Microchemistry op de universiteitscampus uit te breiden.

Het ALD Centre of Excellence op de Universiteit van Helsinki moet het onderzoek aan atoomlaagdepositie een boost geven. Foto: Jani Närhi

Het ALD CoE zal zich richten op ald en andere atoomlaagprocessen en dunne filmmaterialen die nodig zijn voor toekomstige micro-elektronica. Atoomlaagdepositie is een geavanceerde technologie voor het op zeer gecontroleerde wijze afzetten van dunne-filmmaterialen voor geïntegreerde schakelingen en andere toepassingen. Halfgeleiders in alle hedendaagse mobiele telefoons en computers bevatten materialen die door ald zijn gemaakt.

Universitair hoofddocent Matti Putkonen, hoofd van de HelsinkiALD-onderzoeksgroep aan de universiteit: ‘Ons onderzoeksgebied is buitengewoon vruchtbaar en lonend voor samenwerking tussen de academische wereld en de industrie. De onderzoeksvragen die we behandelen, zijn fundamenteel van aard, maar onze resultaten kunnen onmiddellijk worden gebruikt in de toekomstige halfgeleiderapparaten. De scheiding tussen fundamenteel en toegepast onderzoek is daarom zinloos.’