Hoe ASML wil blijven verkleinen

Paul van Gerven
Leestijd: 5 minuten

ASML onthulde recent hoe met het ecosysteem rond de Veldhovense euv-scannners van plan is om het komende decennium steeds kleinere chipdetails te kunnen blijven afdrukken.

Met de transitie van de i-line-lampen in het midden van de jaren tachtig naar de euv-lichtbronnen van tegenwoordig is de resolutie waarmee ’s werelds meest geavanceerde chips worden afgebeeld, met twee ordegroottes naar beneden gegaan. Al enige tijd zegt ASML dat het deze trend nog minstens een decennium kan blijven volhouden. Maar behalve dat het high-NA euv-lithografie op de roadmap heeft gezet, is de Veldhovense machinebouwer nog niet in details getreden over hoe het bedrijf dat wil verwezenlijken. Tijdens een presentatie op de online conferentie SPIE Advanced Lithography lichtte Jos Benschop, senior vicepresident technologie, een tipje van de sluier op.

Het onderwerp waar het publiek waarschijnlijk reikhalzend naar uitkeek, was stochastics. Benschop zelf noemde het ‘de olifant in de kamer’. Stochastische fouten zijn random variaties in het patroon en zijn al vanaf het begin een uitdaging voor euv-lithografie. Het is dus al jaren een veel besproken onderwerp, vooral op specialistenbijeenkomsten zoals de SPIE AL-conferentie.

Dit artikel is exclusief voor premium leden van High-Tech Systems Magazine. Al premium lid? Log dan in. Nog geen premium lid? Neem dan een premium lidmaatschap en geniet van alle voordelen.

Inloggen

Problemen met inloggen? Bel dan (tijdens kantooruren) naar 024 350 3532 of stuur een e-mail naar info@techwatch.nl.