Canon bereidt commerciële productie van 16- tot 20-nanometerchips met nano-imprintlithografie voor. Dit fotonloze lithoproces, vermoedelijk voor de productie van nand-geheugen, zou in 2017 online komen. Dat meldt Nikkei Technology Online, dat aanwezig was op een event van Canon in Tokio. Het Japanse bedrijf toonde daar een imprintmal en een met nano-imprintlitho verwerkte wafer. De technologie zou bovendien geschikt zijn voor de productie 11-nanometerchips.

Canon raakte achterop in de ontwikkeling van optische lithoapparatuur en zet nu in op nano-imprintlithografie. Na een jarenlange samenwerking kocht Canon vorig jaar het Amerikaanse Molecular Imprints, dat sinds 2001 imprintlithoprocessen voor de halfgeleiderindustrie ontwikkelt. Molecular Imprints werkte al met nand-producent Toshiba en Canon doet dat nog steeds.